Chemins de puissance RF dans les outils de procédé
Les équipements de procédé semi-conducteur utilisent de l'énergie RF ou micro-ondes pour la gravure plasma, le dépôt, la pulvérisation cathodique et le traitement de matériaux. La section RF autour de la chambre peut comprendre amplificateurs de puissance, alimentations d'amplificateur, surveillance de puissance réfléchie, unités de contrôle et ensembles thermiques refroidis par air.
Environnement de procédé
La charge vue par le chemin RF varie avec le mélange gazeux, la pression de chambre, l'état d'adaptation, l'état du wafer et le rapport cyclique. Puissance délivrée, puissance réfléchie, seuils de protection et accès au refroidissement influencent la stabilité de l'outil pendant les cycles de production.
Données techniques
Les données utiles comprennent fréquence de fonctionnement, puissance de sortie, rapport cyclique, tolérance au désadaptation, seuil de puissance réfléchie, interface de contrôle, tension d'alimentation, méthode de refroidissement, alarmes et accès maintenance.
